Thetametrisis自動化高速薄膜厚度測量儀 FR-Scanner 是一種緊湊的臺式工具，適用于自動測繪晶圓片上的涂層厚度。FR-Scanner 可以快速和準(zhǔn)確測量薄膜特性：厚度，折射率，均勻性，顏色等。真空吸盤可應(yīng)用于任何直徑或其他形狀的樣片。
1、應(yīng)用
半導(dǎo)體生產(chǎn)制造：(光刻膠, 電介質(zhì),光子多層結(jié)構(gòu)， poly-Si, Si, DLC, )
光伏產(chǎn)業(yè)
液晶顯示
光學(xué)薄膜
聚合物
微機電系統(tǒng)和微光機電系統(tǒng)
基底：透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
Thetametrisis顯示器薄膜測量儀*的光學(xué)模塊可容納所有光學(xué)部件：分光計、復(fù)合光源(壽命10000小時)、高精度反射探頭。因此，在準(zhǔn)確性、重現(xiàn)性和長期穩(wěn)定性方面保證了優(yōu)異的性能。
Thetametrisis顯示器薄膜測量儀 光學(xué)厚度測量儀通過高速旋轉(zhuǎn)平臺和光學(xué)探頭直線移動掃描晶圓片(極坐標(biāo)掃描)。通過這種方法，可以在很短的時間內(nèi)記錄具有高重復(fù)性的精確反射率數(shù)據(jù)，這使得FR-Scanner 成為測繪晶圓涂層或其他基片涂層的理想工具。
2、特征
單點分析(不需要預(yù)估值)
動態(tài)測量
包括光學(xué)參數(shù)(n和k，顏色) o 為演示保存視頻
600 多種的預(yù)存材料
離線分析
免費軟件更新
3、性能參數(shù)
4、測量原理
白光反射光譜(WLRS)是測量從單層薄膜或多層堆疊結(jié)構(gòu)的一個波長范圍內(nèi)光的反射量，入射光垂直于樣品表面，由于界面干涉產(chǎn)生的反射光譜被用來計算確定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)(n和k)等。
1、樣片平臺可容納任意形狀的樣品。450mm平臺也可根據(jù)要求提供。真正的X-Y掃描也可能通過定制配置；
2、硅基板上的單層SiO2薄膜的厚度值。對于其他薄膜/基質(zhì)，這些值可能略有不同；
3、15天平均值的標(biāo)準(zhǔn)差平均值。樣品：硅晶片上1微米的二氧化硅；
4、2 X (超過15天的日平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差)。樣品：硅晶片上1微米的二氧化硅；
5、測量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀比較；
6、根據(jù)材料；
7、測量以8 "晶圓為基準(zhǔn)。如有特殊要求，掃描速度可超過1000次測量/每分鐘；
FR-Scanner 自動化高速薄膜厚度測量儀依托 ** 白光反射光譜（WLRS）** 核心技術(shù)與極坐標(biāo)高速掃描架構(gòu)，實現(xiàn)每分鐘超 1000 次高效檢測，在精度、重復(fù)性與長期穩(wěn)定性上表現(xiàn)突出。設(shè)備一體式光學(xué)模塊搭配萬小時級長壽命光源，內(nèi)置 600 余種材料參數(shù)庫，支持免預(yù)估單點動態(tài)測量，可同步輸出厚度、折射率、消光系數(shù)、均勻性等關(guān)鍵數(shù)據(jù)。真空吸盤平臺兼容各類圓形、異形基板，支持最大 450mm 定制化樣品臺與 X-Y 軸定制掃描，全面覆蓋半導(dǎo)體、光伏、顯示、光學(xué)薄膜、MEMS 等領(lǐng)域的研發(fā)與量產(chǎn)檢測需求。儀器支持離線分析與免費軟件升級，操作便捷、維護簡單，搭配岱美儀器專業(yè)技術(shù)服務(wù)，是薄膜材料表征、制程監(jiān)控與品質(zhì)管控的理想高精度檢測設(shè)備。
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產(chǎn)品型號：