它是一個基于模塊化和改進(jìn)的SmartNIL模塊的獨立系統(tǒng)，可以根據(jù)處理和自動化水平進(jìn)行配置。EVG7300支持從150毫米到300毫米的晶圓尺寸，具有低至300納米的高精度對準(zhǔn)，先進(jìn)的過程控制和高吞吐量，可以滿足各種自由形狀和高精度納米和微光學(xué)元件和器件的先進(jìn)研發(fā)和大批量制造(HVM)需求。為了在HVM環(huán)境中集成預(yù)處理和后處理流的必要性，該模塊可以集成到HERCULES NIL系統(tǒng)中

這種多功能系統(tǒng)旨在服務(wù)于廣泛的新興應(yīng)用，包括微和納米壓印以及功能層的紫外線堆疊。因此，該設(shè)備可以增強晶圓級光學(xué)(WLO)，納米光子學(xué)，超表面和生物醫(yī)學(xué)芯片的工藝性能。這與行業(yè)對新型光學(xué)傳感器和光電子器件的需求密切相關(guān)，例如自動駕駛，汽車和裝飾照明中的微透鏡陣列和投影儀，生物識別認(rèn)證的衍射光學(xué)器件以及復(fù)雜元透鏡的新興趨勢。利用這項技術(shù)的第一個應(yīng)用已經(jīng)存在于先進(jìn)的生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和增強現(xiàn)實波導(dǎo)領(lǐng)域，其中納米印跡技術(shù)可以實現(xiàn)復(fù)雜設(shè)計的高質(zhì)量制造。

紫外光納米壓印機特點

· 靈活性:UV- nil系統(tǒng)在一個工具中實現(xiàn)三個UV過程:SmartNIL, WLO和堆疊

     · 精確控制多步工藝，包括對準(zhǔn)，接觸和紫外線固化

     · 用于SmartNIL和WLO的低力自動沖壓分離

· 可擴展性:加工高達(dá)300mm基板的晶圓

· 模塊化:獨立模塊，以及集成到HERCULES NIL

     · 基材搬運:從手動裝載到全自動操作

     · 可選的自動郵票加載SmartNIL允許連續(xù)模式操作

· 高級對齊功能

     · 實時校準(zhǔn)<±300nm(取決于工藝)

· UV LED燈最高功率500mW/cm²

     · > 90%均勻度

     · 可選:雙波長工作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可選特性

     · 光楔誤差補償(WEC)

     · 溫度控制

· 行業(yè)先進(jìn)的工藝性能

     · 分辨率低至單納米范圍

     · 非常精確的殘余層控制

技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（襯底尺寸）：最大300毫米

分辨率：≤10納米（視工藝及材料而定，主料由客戶提供）

支持的進(jìn)程：Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®

EVG7300是一款面向先進(jìn)研發(fā)與大批量制造（HVM）的多功能紫外納米壓印系統(tǒng)，支持SmartNIL、晶圓級光學(xué)（WLO）及透鏡堆疊（Lens Stacking）三種工藝，可在同一平臺內(nèi)靈活切換。該設(shè)備兼容150 mm至300 mm晶圓，對準(zhǔn)精度可達(dá)±300 nm，UV LED功率最高500 mW/cm²且均勻性大于90%，并可選配365 nm與405 nm雙波長曝光，適應(yīng)不同光刻膠體系。

在實際部署時，用戶可根據(jù)工藝需求選擇手動裝載或全自動操作，并可配置自動印版加載模塊實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)；對于高精度光學(xué)器件制造，建議選配光楔誤差補償（WEC）與溫度控制模塊，以進(jìn)一步消除基板變形對多層堆疊的影響。

此外，該設(shè)備可作為獨立單元運行，也可集成至HERCULES NIL系統(tǒng)，實現(xiàn)預(yù)處理、壓印與后處理的全流程自動化。在服務(wù)支持方面，我們提供工藝調(diào)試支持、模具與光刻膠選型建議、以及設(shè)備與工廠自動化系統(tǒng)（如SECS/GEM）的對接服務(wù)，并可依據(jù)您的研發(fā)或量產(chǎn)目標(biāo)，協(xié)助制定完整的納米壓印工藝方案。